Adaptation marginale des onlays réalisés par CFAO

La technique d’empreinte, le système de CFAO utilisé, la forme de préparation réalisée et l’agent de scellement/collage peuvent affecter l’adaptation marginale des onlays conçus et fabriqués avec l’assistance d’un ordinateur. La préparation de la dent peut être une préparation conventionnelle (PC) ou une préparation modifiée (PM). La différence entre les deux est la présence d’un épaulement cervical sur la PC. Selon Kramer et al., des restaurations présentant un hiatus du joint marginal inférieur à 100 µm sont considérées comme cliniquement acceptables. L’objet de cette étude est d’évaluer l’influence de 2 formes de préparation et de 2 techniques d’empreintes numériques, directe et indirecte, sur l’adaptation marginale des onlays fabriqués par CFAO.

Matériel et méthode

Deux formes de cavités mésio-occluso-vestibulaires pour onlays sont réalisées sur des molaires mandibulaires en plastique. Les préparations comportent d’abord une cavité occlusale, une boîte mésiale et une réduction de 2 mm de hauteur de la cuspide mésio-vestibulaire, puis un épaulement profond de 1,2 mm est ajouté à la première préparation dite conventionnelle. La seconde préparation, dite modifiée, n’en comporte pas. Des modèles virtuels sont tirés de ces préparations à l’aide d’un scanner numérique, de manière directe par balayage des dents en plastique ou de manière indirecte en balayant les modèles en plâtre tirés d’une empreinte conventionnelle. Les onlays sont fabriqués par un système CFAO à partir de blocs en résine nano-céramique. Les hiatus marginaux sont évalués avec un stéréomicroscope à différents niveaux des limites marginales.

Résultats et discussion

Le hiatus du joint marginal des onlays varie en fonction de la forme de préparation, de la technique d’empreinte et de la localisation de la mesure effectuée sur la limite marginale. La préparation conventionnelle (PC) (avec épaulement) présente un hiatus marginal moyen significativement réduit (59 ± 50 µm) par rapport à la préparation modifiée (PM) (69 ± 58 µm). Le hiatus marginal moyen est significativement plus grand dans les segments mésial et vestibulaire de la limite cervicale de la PM par rapport à la PC. En ce qui concerne les techniques d’empreinte, le joint vestibulaire présente le hiatus moyen le plus petit dans les restaurations fabriquées à partir d’empreintes indirectes par rapport à des empreintes directes (42 ± 33 µm versus 60 ± 39 µm).