Évaluation de la perte osseuse marginale péri-implantaire en utilisant des piliers modifiés placés à différents niveaux de la crête osseuse

Cette étude évalue la perte osseuse marginale péri-implantaire autour de 282 implants dans des situations cliniques différentes, où le niveau de plateau implantaire varie par rapport à la crête et où la connexion avec le pilier est conventionnelle (n = 193) ou de type platform switching (n = 89), c’est-à-dire avec un diamètre de pilier inférieur à celui du plateau implantaire.

Deux groupes sont créés correspondant à la connexion implant-pilier continue ou avec un platform switching. Chaque groupe est ensuite subdivisé en trois sous-groupes selon le niveau du plateau implantaire supracrestal, juxtacrestal et infracrestal.

Selon un protocole décrit, des mesures linéaires de la résorption osseuse sont faites après deux ans de mise en fonction. Les données sont analysées et montrent des différences statistiques significatives entre les sous-groupes de chaque type de connexion implanto-prothétique. Il n’y avait pas de différence statistique significative entre les sous-groupes supracrestal et infracrestal pour le groupe des connexions continues conventionnelles. Le groupe platform switching montrait de façon significative (p = 0,46) une moindre perte osseuse dans la seule situation infracrestale. Le concept de platform switching n’a pas montré un avantage par rapport à toutes les situations comparées, sauf pour les cas de connexion implanto-prothétique sous-crestale. La connexion implanto-prothétique juxta-osseuse a provoqué le plus de perte osseuse marginale dans les deux groupes de connexion : conventionnelle et platform switching.