Influence du diamètre d’un implant sur l’os environnant - Clinic n° 01 du 01/01/2018
 

Clinic n° 01 du 01/01/2018

 

PRESSE INTERNATIONALE

L’ESSENTIEL

Antoine VASSALLO  

Un implant de grand diamètre (wide-platform, ou WP) procure une plus grande surface de contact avec l’os et réduit les contraintes dans la corticale osseuse par rapport aux implants de diamètre standard (regular-platform, ou RP). Il est utilisé en particulier dans les crêtes postérieures de faible hauteur. Mais on ignore si un gros implant entraîne une perte osseuse différente de celle que provoquerait un implant standard dans les secteurs postérieurs. L’objet de la...


Un implant de grand diamètre (wide-platform, ou WP) procure une plus grande surface de contact avec l’os et réduit les contraintes dans la corticale osseuse par rapport aux implants de diamètre standard (regular-platform, ou RP). Il est utilisé en particulier dans les crêtes postérieures de faible hauteur. Mais on ignore si un gros implant entraîne une perte osseuse différente de celle que provoquerait un implant standard dans les secteurs postérieurs. L’objet de la présente étude rétrospective est d’évaluer, après une période de suivi de 3 à 6 années, le taux de survie et la perte d’os marginal associés aux implants RP et aux implants WP supportant une molaire prothétique.

Matériel et méthode

Quarante-six patients, porteurs au total de 67 implants unitaires placés dans des régions molaires et supportant une couronne céramo-métallique, sont convoqués par leur praticien après une période de fonction de 3 à 6 ans. Les implants sont issus du même fabricant (Nobel Biocare) et sont tous de même conception (Brånemark MkIII, à surface anodisée et hexagone externe pour la connexion du pilier). Le praticien enregistre le site d’implantation et la longueur des implants et classe ces derniers en fonction de leur diamètre : plateforme standard (RP) pour 36 implants ou grande plateforme (WP) pour 31 implants. Les implants sont évalués à l’aide de radiographies qui servent également à analyser le remodelage de l’os marginal en les comparant aux radiographies initiales obtenues lors de la mise en charge prothétique des implants.

Résultats et discussion

Alors que dans le groupe WP aucun échec n’est constaté, dans le groupe RP, 5 implants sont perdus avant leur mise en charge et 2 autres le sont après leur mise en charge. Tous ces échecs surviennent à la mandibule. Les échecs précoces observés concernent les implants les plus courts du groupe RP, montrant l’importance de la longueur sur la stabilité des implants. Cependant, il s’avère que la longueur a une petite influence sur la distribution des contraintes dans l’os. Le remodelage osseux est évalué pour les 62 implants restants. La perte d’os marginal est similaire pour les 2 groupes : 1,35 ± 0,96 mm pour le groupe RP et 1,06 ± 0,70 mm pour le groupe WP.

L’ESSENTIEL

Avant un traitement par implants, la sélection de leurs dimensions optimales est importante, en particulier dans les zones postérieures où les charges occlusales sont élevées. Quand le diamètre des implants augmente, la surface de contact os-implant augmente, leur procurant une meilleure stabilité et, du même coup, une résistance à la fracture plus élevée. La perte d’os crestal autour des implants est attribuée aux charges occlusales et il est supposé que des implants de grand diamètre réduisent la contrainte dans l’os crestal et, par conséquent, la perte potentielle de cet os. Cependant, le choix d’implants de grand diamètre n’est pas forcément le meilleur pour minimiser la contrainte à l’interface os/implant. Dans les limites de cette étude rétrospective, même si les résultats indiquent que les implants de grand diamètre testés subissent moins d’échecs par rapport à des implants de diamètre standard, les niveaux de l’os autour des 2 groupes d’implants après leur mise en charge sont similaires. Les implants testés présentent un hexagone externe pour la connexion avec les piliers. De futures études devraient enquêter sur l’influence du diamètre d’implants présentant d’autres types de connexions implant-pilier et sur des implants courts et extra-courts.