Réparation d'une membrane sinusienne perforée avec une membrane résorbable en collagène : étude humaine - JPIO n° 1 du 01/02/2005
 

Journal de Parodontologie & d'Implantologie Orale n° 1 du 01/02/2005

 

Revue scientifique internationale - Recherche fondamentale

Implantologie

Caroline Fouque-Deruelle  

(Martigues)

But de l'étude

Le but de cette étude est d'évaluer les effets de l'obturation d'une perforation de la membrane sinusienne avec une membrane résorbable en collagène.

Matériels et méthodes

Douze patients ont été inclus selon les critères suivants : hauteur d'os résiduelle sous-sinusienne ≤ 4 mm nécessitant des comblements sinusiens bilatéraux ; perforation > 2 mm de la membrane sinusienne lors de l'une des deux interventions. Les sinus ont été comblés par...


But de l'étude

Le but de cette étude est d'évaluer les effets de l'obturation d'une perforation de la membrane sinusienne avec une membrane résorbable en collagène.

Matériels et méthodes

Douze patients ont été inclus selon les critères suivants : hauteur d'os résiduelle sous-sinusienne ≤ 4 mm nécessitant des comblements sinusiens bilatéraux ; perforation > 2 mm de la membrane sinusienne lors de l'une des deux interventions. Les sinus ont été comblés par de l'os bovin associé, dans certains cas, à une allogreffe (DFDBA). De 6 à 16 mois plus tard, lors de la pose des implants (Steri-Oss®, Nobel Biocare), une biopsie osseuse a été réalisée.

Résultats

Le taux de succès implantaire est significativement plus élevé dans les sinus non perforés (100 %) que perforés (69,5 %). L'étude histométrique montre plus d'os en formation dans les premiers (33,58 %) que dans les seconds (14,17 %).

Conclusion

Cette étude démontre que la perforation de la membrane sinusienne lors d'une greffe de sinus peut compromettre le succès implantaire. En outre, la réparation d'une perforation > 2 mm par une membrane de collagène ne semble pas empêcher la fuite de l'os greffé.

Commentaires

Il serait intéressant d'évaluer l'effet de cette même réparation sur des perforations < 2 mm (classe 1, Reiser et al., 2001) ou encore de tester de nouvelles techniques de comblement lorsqu'une telle membrane est placée pour réparer une perforation de la membrane sinusienne (Proussaefs et Lozada, 2003). Le résultat secondaire de cette étude est de montrer que le taux le plus élevé d'os en formation était de 33,58 %, ce qui est assez bas et permet cependant 100 % de succès implantaire.