Effets de l'inclinaison mésio-distale sur la répartition du stress dans des prothèses fixées sur implants

Cette étude de modélisation en 3D sur éléments finis examine les effets de l'inclinaison mésio-distale de piliers implantaires fixés situés dans la région maxillaire postérieure sur la répartition des forces. Le but de cet article est de déterminer une valeur de stress (VM) en utilisant comme support l'os maxillaire de cadavre.

Les implants, tous de 4,3 mm de diamètre et de 11 mm de long, ont été posés selon 2 configurations possibles sur les maxillaires :

- 3 implants au niveau des première et deuxième prémolaires et de la deuxième molaire ;

- 2 implants au niveau de la deuxième prémolaire et de la deuxième molaire avec une extension mésiale.

Un minimum de 1 mm d'espace entre le plancher du sinus a été préservé ; des piliers d'une hauteur de 6,5 mm et d'une inclinaison de 5° ont été mis en place au niveau des sites des prémolaires ; 3 inclinaisons différentes ont été utilisées (0, 15 et 30°) sur les sites molaires.

Une charge prothétique de 470 Ncm d'intensité a été appliquée selon un axe vertical, répartie comme suit : 100 Ncm pour les prémolaires, 140 Ncm pour le pontique et 130 Ncm pour la deuxième molaire.

Une charge prothétique de 940 Ncm a été appliquée dans un axe oblique et de 130 Ncm dans un axe horizontal.

La valeur du stress était moins importante quand la charge, verticale, était de 0 à 54 MPa (moyenne : 36 MPa) ; elle était plus importante en présence de forces obliques : de 0 à 242 MPa (moyenne : 194,2 MPa) ; elle variait de 0 à 68 MPa pour les charges horizontales (moyenne : 50 MPa)

La valeur du stress était plus concentrée au niveau des zones de contact entre implant et os cortical. La deuxième configuration présentait des valeurs de stress plus de 3 fois supérieures dans le sens vertical et plus de 2 fois supérieures dans les sens horizontal et oblique ; les valeurs de stress obtenues au pied des implants étaient plus élevées en vestibulaire et palatin qu'aux niveaux mésial et distal.

À cause de l'inclinaison de la deuxième molaire, la valeur du stress était plus concentrée en distal qu'en vestibulaire ou palatin.

L'implant adjacent à l'extension mésiale présentait des concentrations de stress augmentées dans tous les cas.

Selon les auteurs de l'étude, les concentrations de stress observées au pied de l'implant sont similaires à celles rapportées dans la littérature médicale.