Ostéointégration d'implants Osseotite® et en titane usinés dans des défauts osseux recouverts par une membrane : étude histologique et histométrique

Cette étude compare la densité osseuse et le contact os/implant (BIC) autour d'implant présentant une surface Osseotite® et des implants présentant une surface usinée placés dans des défauts osseux sans matériaux de comblement couverts par une membrane. Au total, 30 implants de 2 mm de diamètre et 10 mm de long ont été préparés spécialement : ils présentaient un côté Osseotite® et à l'opposé, une surface usinée. Des défauts osseux ont été créés sur la crête iliaque de 3 chiens à l'aide d'un foret de 6 mm de diamètre pour produire un défaut 5 mm de profondeur. Les implants ont été insérés dans le centre du défaut avec 5 mm fixés dans l'os laissant 5 mm libres dans le défaut avec un espace de 2 mm entre l'implant et l'os environnant. Des membranes en polytétrafluroéthylène expansée ont été placées au-dessus des défauts stabilisées avec vis Biotack®. Les périodes de cicatrisation étaient de 2 (groupe A), 3 (groupe B), et 5 mois (groupe C).

L'analyse histologique et histométrique a montré que le BIC était sensiblement inférieur au niveau du défaut osseux par rapport à la partie apicale de l'implant pour les 2 surfaces d'implant et dans tous les groupes. Aucune différence de valeur de BIC n'a été notée à 2 et 5 mois entre les 2 surfaces dans le secteur régénéré ; les valeurs de BIC pour des surfaces d'Osseotite® étaient, en revanche, sensiblement plus élevées que pour les surfaces usinées à 3 mois.

En conclusion, les résultats de cette étude montrent qu'une régénération osseuse complète de défauts situés au niveau cervical d'un implant peuvent se produire en utilisant une membrane seule. Après 3 à 5 mois de cicatrisation, la densité osseuse de l'os néoformé était légèrement inférieure (mais cette différence n'était statistiquement pas significative) par rapport à la région apicale de l'implant ; le BIC dans la région régénérée était, quant à lui, significativement inférieur.