Aménagement simplifié des secteurs postérieurs maxillaires avec des implants courts à la surface poreuse et une élévation indirecte simultanée du plancher du sinus

But de l'étude

Le but de cet article est de présenter une gestion implantaire simplifiée des secteurs postérieurs maxillaires en faisant appel à une élévation du plancher du sinus avec des ostéotomes afin de mettre en place des implants impactés à surface poreuse.

Matériels et méthodes

Les auteurs ont posé 26 implants (Endopore, Innova) chez 16 patients sous le plancher du sinus lorsque l'épaisseur d'os est inférieure à 3 mm. Les sites sont préparés par des ostéotomes de diamètres croissants avec une interposition de matériau Bio-Oss qui fait effet de tampon avec la membrane de Schneiderian, qui est déplacée apicalement lorsque l'ostéotome vient au contact du plancher cortical du sinus.

Résultats

Les auteurs ont mis en place des implants de 7 mm de long dans des sites sous-sinusaux qui présentaient des hauteurs d'os de moins de 3 mm et 100 % des implants posés sont en fonction après 11 mois.

Conclusion

Cette approche thérapeutique innovatrice et très peu invasive d'élévation directe du sinus simplifie énormément l'aménagement des secteurs postérieurs maxillaires lorsque la hauteur d'os sous le plancher sinusien est très faible.

Commentaires

Cet article a pour seul intérêt la description détaillée et bien illustrée par des schémas et des radiographies de la technique d'élévation du sinus avec les ostéotomes.

Par contre, l'utilisation d'un système implantaire confidentiel, mis au point par les seuls auteurs de l'article qui se réfèrent à des résultats malheureusement non publiés à ce jour (taux de succès de 100 % !), nous obligent à la plus extrême prudence vis-à-vis de ce système implantaire impacté à surface rugueuse.

Par ailleurs, ces résultats demandent à être confirmés sur le long terme s'agissant de la longueur des implants utilisés.