Évaluation clinique à long terme des variations de la hauteur du greffon après un épaississement du plancher sinusal au maxillaire avec un mélange 2:1 d'os autogène et xénographe et pose simultanée d'implants

Cette étude évalue les variations à long terme d'un comblement de sinus associée simultanée à la pose d'implants. Un total de 191 patients qui devaient subir un épaississement du plancher sinusal ont été suivis radiographiquement durant une décennie. Un mélange 2:1 d'os autogène et xénographe bovin (Bio-Oss^®) a été utilisé comme greffon. La hauteur du greffon sinusal a été mesurée à l'aide de 294 images panoramiques immédiatement après l'épaississement et jusqu'à 108 mois après.

Les variations dans la hauteur du greffon sinusal ont été calculées vis-à-vis de la longueur de l'implant et la hauteur originale du plancher sinusal.

Les patients ont été divisés en 3 groupes selon la hauteur du plancher sinusal greffé en relation avec l'apex de l'implant :

- groupe 1 : le plancher sinusal greffé était situé au-dessus de l'apex des implants ;

- groupe 2 : l'apex des implants était au niveau du sinus greffé ;

- groupe 3 : le plancher sinusal greffé était sous l'apex des implants.

Après cet épaississement, le plancher sinusal était constamment situé au-dessus de l'apex des implants. Après 2 à 3 ans, le plancher sinusal greffé était au niveau ou légèrement en dessous de l'apex des implants.

Cette relation a été maintenue avec le temps. La hauteur du greffon sinusal diminuait significativement et approchait la hauteur sinusale originale.

La proportion de patients correspondant au groupe 3 atteignait un maximum à partir de 3 ans. Le taux de survie clinique des implants était de 94,2 %.

Toutes les pertes implantaires se sont produites dans les 3 ans qui ont suivi l'épaississement du plancher sinusal.

Une pneumatisation progressive du plancher sinusal se produit après le comblement de ce dernier avec un mélange de 2:1 os autogène/xénogreffe, et la stabilité à long terme de la hauteur du plancher sinusal greffé représente un facteur important pour le succès de l'implant.